BDVシリーズのダイヤフラムバルブは、半導体製造プロセスにおけるガスと液体の分配を正確に制御することができます。

BDVは、メディアの流れを制御するための柔軟なタイドダイヤフラム設計を特徴とする正の後退ダイヤフラムバルブです。バルブが作動すると、ダイヤフラムは上下に動きます。開いた位置では、ダイヤフラムが持ち上がり、メディアが流れることを許可します。閉じた位置では、バルブシートに対して密封し、流れを停止します。

すべてのBDVシリーズバルブは、厳格な半導体産業の要件に従って清掃され、クラス100のクリーンルーム環境で組み立てられます。出荷前には、すべてのバルブシール（シートとダイヤフラム）が質量分析計を使用して100%ヘリウム漏れテストを受け、要求の厳しいUHPアプリケーションでの性能と信頼性を保証します。

市場：
•流体およびガス処理
•プロセス制御
•半導体
•分析実験室
•製薬
•バイオファーム
•航空宇宙
•工業

アプリケーション：
•半導体サブファブガス側系統
•バルクガス供給
•ツールフックアップ
•バルブマニホールドボックス（VMB）

特徴と利点：
•高流量、低圧力アプリケーションに最適
•標準表面仕上げは10マイクロインチRa
•真空から300 psigまで完全に機能
•微粒子生成とガス捕捉が最小限
•金属対金属の外部シール
•タイドダイヤフラムは湿潤領域のバネを排除し、安全性を向上
•内部漏れ率：≤ 1 x 10-9 scc/sec He
•内部漏れ率：≤ 2 x 10-10 scc/sec He
•流量：2.8

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UHPバルクダイアフラムバルブ - BDVシリーズ